Plasma Etcher Ilana

Inductively Coupled Plasma Etch (ICPE) jẹ abajade ti apapọ awọn ilana kemikali ati ti ara. Ilana ipilẹ rẹ ni pe, labẹ igbale ati titẹ kekere, igbohunsafẹfẹ redio ti o ṣe ipilẹṣẹ nipasẹ ipese agbara ICP RF ti njade si okun asopọ toroidal. Gaasi etching ti o dapọ ni iwọn kan ni a so pọ mọ isunjade didan, ti n ṣe ipilẹṣẹ pilasima iwuwo giga -. Labẹ ipa ti RF ni elekiturodu isalẹ, pilasima yi bombard dada sobusitireti, fifọ awọn asopọ kemikali ti ohun elo semikondokito ni agbegbe apẹrẹ ti sobusitireti. Awọn nkan ti o ni iyipada wọnyi fesi pẹlu gaasi etching lati ṣe awọn agbo-ara iyipada, eyiti o ya sọtọ kuro ninu sobusitireti bi awọn gaasi ti a si fa jade kuro ninu laini igbale.